隨著現今半導體產業的發展與製程的開發，晶圓線路製程更加細緻，所使用的清洗用水純度也需提昇，因此對於超純水的需求亦逐漸升高。超純水為極為接近高純度的水，其為除氫離子與氫氧離子以外，幾乎無其他電解質存在的水。在製造處理過程後，可盡可能地將溶在水中或在水中散播的各種雜質除去，包含有機物、細菌、塵埃、氧化物 等物質。常作為晶圓、電路板等半導體製程清洗用水。
[vc_row][vc_column][eut_portfolio columns=”2″ columns_tablet_landscape=”2″ columns_tablet_portrait=”2″ columns_mobile=”1″ portfolio_link_type_title=”觀看更多” categories=”46″ item_spinner=”yes” hide_portfolio_like=”yes” overlay_opacity=”90″][/vc_column][/vc_row]